Особенности получения наноструктурированных...

Main
Особенности получения...

Особенности получения наноструктурированных ионно-плазменных плёнок с заданными свойствами

Каменева А. Л.

0 / 0

Sukakah anda buku ini?

Bagaimana kualiti fail ini?

Muat turun buku untuk menilai kualitinya

Bagaimana kualiti fail yang dimuat turun?

Bahasa:

russian

Halaman:

126

ISBN 10:

5398005278

ISBN 13:

9785398005271

Fail:

PDF, 3.71 MB

IPFS:

,

russian0

Baca dalam Talian

Penukaran menjadi sedang dijalankan

Penukaran menjadi gagal

Mungkin anda berminat

Халфин М.А. — Система менеджмента качества промышленного и ремонтно-обслуживающего предприятий

Майссел Л., Глэнг Р. — Технология тонких пленок (справочник)

Под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко — Технология тонких пленок

Панькин Николай Александрович — Влияние условий конденсации ионно-плазменного потока на структуру и свойства покрытий нитрида титана

Поленов Ю. В., Егорова Е. В. — Физико-химические основы нанотехнологий

Поленов Ю. В., Егорова Е. В. — Наноматериалы и нанотехнологии: учебник для СПО

Сайкова Светлана Васильевна — Современные химические технологии : учебно-методическое пособие

Романовский М.Н. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Часть 1. Основные структуры полупроводниковых интегральных схем

Кривобоков В.П., Сочугов Н.С., Соловьев А.А. — Плазменные покрытия (свойства и применение): Учебное пособие

Кривобоков В.П., Сочугов Н.С., Соловьев А.А. — Плазменные покрытия (свойства и применение): Учебное пособие

— Сборник. Зарубежная электронная техника 2000-4

Майссел Леон, Под редакцией Л.Майссела, Р.Глэнга. Перевод с английского Под редакцией М.И.Елинсона, Г.Г.Смолко. — Технология тонких пленок. Справочник

Майссел Леон, Под редакцией Л.Майссела, Р.Глэнга. Перевод с английского Под редакцией М.И.Елинсона, Г.Г.Смолко. — Технология тонких пленок. Справочник

Кривобоков В.П., Сочугов Н.С., Соловьев А.А. — Плазменные покрытия (свойства и применение): учебное пособие

Коншина Е.А. — Аморфный гидрогенизированный углерод и применение его в оптических устройствах

Романовский М.Н. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Часть 1. Основные структуры полупроводниковых интегральных схем

Нарайкин О.С., Потловский К.Г., Холевин В.В. — Введение в микросистемную технику

Малышев К.В., Шиганов И.Н. — Лазерные технологии в электронном машиностроении

Бондаренко В.П. — Курс лекций по дисциплине Нанотехнология

Кривобоков В.П. — Плазменные покрытия (свойства и применение)

Точицкий Т.А., Федосюк В.М. — Электролитически осажденные наноструктуры

Удовиченко С.Ю. — Пучково-плазменные технологии для создания материалов и устройств микро - и наноэлектроники. Часть1-я

Хасанов О.Л., Двилис Э.С. и др. — Эффекты мощного ультразвукового воздействия на структуру и свойства наноматериалов

Игнатенко. П.И., Терпий Д.Н., Кляхина Н.А. — О влиянии подложки на формирование состава, структуры и твердости нитридных и боридных пленок, полученных методами ионного осаждения

Асанов Б.У., Макаров В.П. — Нитридные покрытия, полученные вакуумно-дуговым осаждением

Кукушкин С.А. — Наносборка пленок - новый метод выращивания бездефектных эпитаксиальных структур

Григорьев Ф.И. — Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники

Светличный А.М., Наумченко А.С. — Конспект лекций по дисциплине Лучевые и плазменные методы формирования наноструктур интегральной электроники

Колесник В.П., Колесник В.В. — Проектирование плазменных технологических установок

Кривобоков В.П., Сочугов Н.С., Соловьев А.А. — Плазменные покрытия (Свойства и применение)

Макарчук М.В., Королев А.П. — Физика тонких пленок

Достанко А.П. и др. — Электрофизические процессы и оборудование в технологии микро - и наноэлектроники

Смирнова К. И. — Тонкие пленки в микроэлектронике

Орликов Л. Н. — Вакуумные и специальные вопросы технологии приборов квантовой и оптической электроники

Орликов Л. Н. — Физические основы нанотехнологий фотоники и оптоинформатики

сост. : Г. Н. Чурилов, А. И. Дудник. — Новые материалы наноматериаловедения. Осаждение пленок методом термовакуумной сублимации

Istilah utama

поверхности

формирования

магнетронного

осаждения

структуры

композиции

процесса

подложки

конденсации

подложка

свойства

наноструктурированных

давления

мощности

особенности

температура

микротвердости

микротвердость

структур

технологических

условиях

испарения

параметров

различных

образования

материалы

распыления

давлении

температуры

установлено

электродугового

параметры

получения

увеличение

процессов